Un equipo multiinstitucional de ingenieros ha desarrollado un nuevo enfoque para la fabricación de nanoestructuras para las industrias de los semiconductores y el almacenamiento magnético. Este enfoque combina una avanzada tecnología de impresión por inyección de tinta de arriba hacia abajo con un enfoque de abajo hacia arriba con copolímeros de bloques que se autoensamblan, un tipo de material que
puede formar espontáneamente estructuras ultrafinas.
puede formar espontáneamente estructuras ultrafinas.
El equipo, formado por nueve investigadores de la Universidad de Illinois en Urbana-Champaign, la Universidad de Chicago y la Universidad de Hanyang en Corea, fue capaz de aumentar la resolución de su
intrincada fabricación de estructuras desde unos 200 nanómetros a unos 15 nanómetros.
intrincada fabricación de estructuras desde unos 200 nanómetros a unos 15 nanómetros.
John Rogers, profesor de la Cátedra Swanlund en Ingeniería y Ciencias de los Materiales en Illinois, y sus colegas informaron sobre sus hallazgos en la edición de septiembre de Nature Nanotechnology.
La combinación de la impresión por chorro con los copolímeros en bloques que se autoensamblan permitió a los ingenieros lograr una resolución mucho más alta, según ha sugerido el autor principal
Serdar Onses, un científico postdoctoral de Illinois.
La combinación de la impresión por chorro con los copolímeros en bloques que se autoensamblan permitió a los ingenieros lograr una resolución mucho más alta, según ha sugerido el autor principal
Serdar Onses, un científico postdoctoral de Illinois.
