NanoInk consigue licencias en exclusiva para 5 nuevas tecnologías de litografía basada en punta
NanoInk anunció que ha llegado a acuerdos de licencia con la Universidad Northwestern que garantizan a NanoInk el acceso comercial exclusivo a cinco tecnologías nuevas para usarlas en combinación con su litografía basada en punta.
Las tecnologías para las que ha obtenido licencia son la tecnología de litografía de pluma polimérica (Polymer Pen Lithography o PPL); la nanolitografía asistida por copolímeros en bloque; la nivelación de retroalimentación de fuerzas de matrices de plumas poliméricas paralelas en masa; la litografía de resorte blando y punta dura ampliamente paralela; y la litografía de pluma de gel.
Con licencias exclusivas para estas tecnologías noveles, NanoInk amplía más aún su carpeta de propiedad intelectual, que ya incluye más de 200 patentes y las aplicaciones registradas en todo el mundo.
NanoInk pretende aprovechar las tecnologías autorizadas para expandir las capacidades de su familia de sistemas de nanofabricación.
Fuente: Azonano
