El grafeno es un supermaterial que es capaz de casi cualquier cosa y es más resistente, más rápido y mejor que casi cualquier otro material que se nos pueda ocurrir. Pero no es barato, porque hasta ahora el gran problema del grafeno ha sido su fabricación.
Es por eso que un anuncio de Hirokazu Fukidome, de la Universidad de Tohoku, en Japón, y sus colegas es muy importante. Estos científicos afirman que han encontrado un modo de cultivar el grafeno en un sustrato de silicio. Para mostrar su técnica la han combinado con la litografía convencional para crear un transistor de efecto campo de grafeno sobre silicio, justo el tipo de dispositivo que la industria electrónica quiere construir por millones de dólares.
Eso es importante por dos razones. En primer lugar, el hecho de ser capaces de cultivar el grafeno a partir de cero va a suponer un gran impulso para el estudio de esta materia y su multitud de impresionantes propiedades. En segundo lugar, ser capaces de cultivarlo sobre silicio lo hace compatible (al menos en principio) con la amplia industria de la fabricación basada en el silicio.
Uno de los temores era que se pasaran por alto muchas de las ventajas del grafeno debido a que la industria de la electrónica ha invertido mucho en el silicio. Eso ya no tiene que ser una preocupación.
Por supuesto, el transistor de grafeno de Fukidome no es el primero: hemos visto varios dispositivos de grafeno interesantes en los últimos años.
Pero el avance es importante porque es probable que conduzca a una rápida adopción del grafeno en la electrónica.
Fuente: Technology Review
