sábado, febrero 18, 2006

Ropa que combate a las toxinas

Unos investigadores están aplicando la química y la nanotecnología para crear una nueva generación de ropa. Gracias a las nuevas técnicas desarrolladas con nanotecnología, desde hace tiempo se están fabricando telas que combaten el frio, resisten a las manchas, gracias a las nanopelos, y combaten los olores al atrapar los microbios mediante el uso de las nanopartículas.

Pero gracias a los nuevos avances, según la revista Technology Review del MIT, científicos están creando ropa para aplicaciones militares y médicas que actúan como una barrera contra las toxinas, matan bacteria y respiran de tal forma que permiten que el sudor se transpira.

Según la revista, un último avance fruto de una colaboración entre equipos de investigación de las universidades de Cornell y California Davis logra conectar membranas porosas con moléculas polímeras que matan a bacterias. Los resultados de este avence podría dar mejor rendimiento en aquellas situaciones en las que se necesita una resistencia a líquidos o vapor, por ejemplo medicos y enfermeras o soldados expuestos a patógenos.

Según el citado artículo, el punto de partida del actual avance data del año 2000 cuando Gang Sun, profesor de textiles de la Universidad de California Davis, inventó un método para adjuntar moléculas de polímeros con cloro a fibras textiles. Estas moléculas matan bacteria de forma casi instantánea y además no resultan dañinas para la piel humana.

Utilizando esta nueva tecnología, Sun creó unos prototipos de calcetines "sin olor" en 2000 y gracias a este avance se pudo fabricar unas sábanas anti-bacterianas además de otros productos. En el año 2005 las investigaciones de Sun llevó a la creación de textiles para miliatares capaces de atrapar y matar agentes tan mortales como el antrax. Los nuevos materiales desarrollados permiten traspasar el sudor pero actuan como barrera contra bacterias.

Artículo original: http://www.technologyreview.com/NanoTech/wtr_16366,303,p1.html
posted by Euroresidentes at 3:43 PM